台湾の科技新報は8月20日、蘭ASMLが台湾南部科学園区で極端紫外線(EUV)露光装置関連のグローバル技術訓練センターの運用を始めたと伝えた。EUV露光装置は最先端半導体を製造するのに欠かせない装置で、ASMLの独壇場となっている。